Shaanxi BLOOM Tech Co., Ltd., Çin'deki heksametildisilazan (hmds) cas 999-97-3'ün en deneyimli üreticilerinden ve tedarikçilerinden biridir. Fabrikamızdan satılık toptan toplu yüksek kaliteli heksametildisilazan (hmds) cas 999-97-3'e hoş geldiniz. İyi hizmet ve uygun fiyat mevcuttur.
Heksametildisilazan (HMDS), renksiz şeffaf sıvı. Hidrolize etmek, NH3'ü serbest bırakmak ve heksametildisilan üretmek kolaydır. Katalizörün varlığında alkol veya fenol ile reaksiyona girerek trimetilalkoksisilan veya trimetilariloksisilan üretir. Trimetilklorosilan üretmek üzere NH3 veya NH4Cl'yi serbest bırakmak üzere susuz hidrojen klorürle reaksiyona girer. Trimetilklorosilanın NH3 ile reaksiyona sokulmasıyla hazırlanabilir. Füme silikanın yüzeyi için hidrofobik bir işlem maddesi ve organik sentez reaksiyonunda N atomları sağlamak için bir reaktif olarak, silikon karbür elyaflar için bir yardımcı madde olarak, silikon karbür elyafların ısı direncini ve mukavemetini arttırmak için ve kaplamalar için bir çökelme önleyici madde olarak kullanılabilir. Ayrıca organosilikon bileşiklerinin hazırlanmasında da kullanılır.
|
|
|
|
Kimyasal Formül |
C6H19NSi2 |
|
Tam Kütle |
161.11 |
|
Molekül Ağırlığı |
161.40 |
|
m/z |
161.11 (100.0%), 162.11 (6.5%), 162.11 (5.1%), 162.11 (5.1%), 163.10 (3.3%), 163.10 (3.3%) |
|
Element Analizi |
C, 44.65; H, 11.87; N, 8.68; Evet, 34.80 |
Heksametildisilazan (HMDS)(CAS numarası: 999-97-3), çok işlevli bir organik silikon bileşiği olarak, benzersiz silikon nitrojen bağı (Si-N) yapısı ve yüksek reaktivitesi nedeniyle tıp, yarı iletken, organik sentez ve malzeme modifikasyonu gibi çeşitli alanlarda yeri doldurulamaz değer göstermiştir.
HMDS'nin farmasötik alanda uygulanması %64'tür ve antibiyotiklerin, anti-tümör ilaçlarının, antiviral ilaçların ve hedeflenen ilaç taşıyıcılarının sentezi için temel reaktiftir. Temel değeri, grup koruması ve reaksiyon aktivasyonunun ikili işlevlerine yansır:
Antibiyotik sentezi
- laktam antibiyotikler (penisilin ve sefalosporin gibi): HMDS, silanizasyon yoluyla hidroksil veya amino gruplarını korur ve temel ara maddelerin asidik veya yüksek-sıcaklık koşulları altında ayrışmasını önler. Örneğin sefalosporin antibiyotiklerinin sentezinde HMDS, 7-aminosefalosporanik asidin (7-ACA) hidroksil grubunu koruyarak reaksiyon verimini %65'ten %89'a çıkarırken yan ürünlerin oluşumunu da azaltır.
Aminoglikozit antibiyotikler (amikasin ve kanamisin gibi): HMDS, reaksiyon yolunun stabilitesini sağlamak için amino grubunu korur. Amikasin sentezinde, HMDS'nin eklenmesi ara maddenin saflığını %92'den %98'e çıkararak büyük-ölçekli üretimin verimliliğini önemli ölçüde arttırdı.
antineoplastik ilaçlar
Florourasil (5-FU): HMDS, silanizasyon yoluyla ilaç ara maddelerinin hidroksil gruplarını koruyarak oksidatif yan reaksiyonları azaltır. Deneysel veriler, HMDS kullanıldıktan sonra fluorourasilin sentez aşamalarının 7 adımdan 4 adıma basitleştirildiğini, verimin %58'den %76'ya arttığını ve saflığın %99,5'e ulaştığını göstermektedir.
Hedeflenen ilaç taşıyıcısı: Yüksek saflıkta HMDS, lipozomların veya polimer nanopartiküllerin yüzeyini değiştirmek, biyouyumluluğu ve hedeflemeyi geliştirmek için kullanılır. Örneğin, değiştirilmiş anti-kanser ilaç taşıyıcılarının tümör dokularındaki birikimi üç kat artar ve sistemik toksisite %40 azalır.
antiviral ilaçlar
Azvudin: HMDS, çok-adımlı koruyucu reaksiyonlar yoluyla yeni antiviral ilaç ara maddelerinin sentezinde safsızlık oluşma riskini azaltır. Klinik öncesi çalışmalar, HMDS'nin kullanıma sunulmasının ara maddelerin safsızlık içeriğini %2,1'den %0,3'e düşürdüğünü ve yıllık 50 tonun üzerinde kapasiteyle büyük-ölçekli üretimi desteklediğini göstermiştir.
Yarı iletken endüstrisi: fotolitografi teknolojisinin "bağlama uzmanı"
Yarı iletken alanında,Heksametildisilazan (HMDS)foto gravürler için bir bağlama maddesi olarak, yüzey modifikasyon teknolojisi yoluyla talaş üretim doğruluğunu artırır ve uygulamaların %20'sini oluşturur. Temel etki mekanizması şudur:
Yüzey hidrofobisite tedavisi
HMDS, silikon levhaların yüzeyine sıvı veya gaz fazında püskürtülür ve silikon nitrür bağı, silikon hidroksil grubu (- Si OH) ile yoğunlaşarak hidrofobik bir silikon nitrür tabakası oluşturur (temas açısı 20 dereceden 120 dereceye çıkar), bu da fotorezist ile silikon levha arasındaki yapışmayı üç kat artırır, aşındırma çözeltisinin nüfuz derinliğini %80 azaltır ve korozyon direncini önemli ölçüde artırır.
Elektronik sınıf ürün uygulamaları
Elektronik sınıf HMDS (%99,999'a eşit veya daha büyük saflık) düz panel ekranlar ve çip üretimi gibi alanlarda yaygın olarak kullanılmaktadır. Örneğin, 12 inç levha işlemede, HMDS işleme, fotorezist sıyırma oranını %15'ten %3'e düşürür, çizgi genişliği tekdüzeliğini ± 2 nm dahilinde kontrol eder ve 5 nm ve altındaki işlemleri destekler.
Organosilikon malzemeler: performansın iyileştirilmesi için temel değiştiriciler
HMDS, organosilikon alanındaki uygulamanın %3'ünü oluşturur ve silikon kauçuğu, silikon yağı ve silikon reçinesi gibi malzemelerin özelliklerini optimize eden temel katkı maddesidir.
Silikon kauçuk takviyesi
Bir sızdırmazlık maddesi olarak HMDS, stabil bir çapraz-bağlı yapı oluşturmak üzere silikon nitrojen bağları yoluyla silikon kauçuk moleküler zincirinin ucundaki hidroksil gruplarıyla reaksiyona girer. Deneyler, silikon kauçuğa %2 HMDS ilavesinin yırtılma mukavemetini %40 artırdığını, sıcaklık dayanımı aralığını -50 dereceden 200 dereceye kadar -80 dereceden 250 dereceye kadar genişlettiğini ve sıkıştırma ayarını %50 azalttığını göstermiştir.
Silikon yağının hidrofobik tedavisi
HMDS, gaz-fazı beyaz karbon siyahının yüzeyindeki silanol gruplarıyla reaksiyona girerek hidrofobik bir silazan tabakası oluşturur, silikon yağının temas açısını 30 dereceden 150 dereceye çıkarır ve köpük giderme süresini %60 azaltır. Kaplamalarda, kozmetiklerde ve diğer alanlarda yaygın olarak kullanılmaktadır.
Yüksek sıcaklıkta yağlayıcı katkı maddesi
HMDS, koruyucu bir film oluşturmak için yağlama yağı molekülleriyle birleşerek uçuculuğu %30 azaltır, oksidasyon indüksiyon süresini 2 kat uzatır ve termal stabiliteyi 300 dereceye kadar artırır. Uçak motorları gibi-yüksek sıcaklıktaki ortamlar için uygundur.
Malzeme yüzey işlemi: işlevsel değişiklik için bir "ana anahtar"
HMDS, %8 uygulama oranıyla inorganik malzemelerin yüzeyindeki hidroksil gruplarını silikon nitrojen bağları yoluyla yoğunlaştırarak performans optimizasyonu sağlar.
Toz malzeme işleme
Beyaz karbon siyahı: HMDS işleminden sonra spesifik yüzey alanı 200 m²/g'den 180 m²/g'ye düştü, topaklaşma olgusu %70 oranında azaldı ve kauçuğun dağılabilirliği önemli ölçüde iyileştirildi.
Titanyum tozu: Yüzey hidrofobiklik işlemi, titanyum tozunun organik solventlerdeki çökelme oranını %90 oranında azaltır, bu da onu 3D baskı metal tozu hazırlığı için uygun hale getirir.
Fiber kumaş modifikasyonu
Silisyum karbür elyafların HMDS ile işlenmesi, bir silisyum nitrür koruyucu katman oluşturarak elyafın ısı direncini 1200 dereceden 1500 dereceye ve mukavemet tutma oranını %65'ten %85'e çıkarır. Havacılık ve uzay kompozit malzemelerinde yaygın olarak kullanılmaktadır.
Heksametildisilazan (HMDS)Organik sentez alanında %5'i oluşturur ve temel uygulamaları şunları içerir:
Klorosilan Monomer Sentezi
HMDS, polisilazan üretmek için klorosilanlarla (oktametilsiklotetrasiloksan gibi) klor değişim reaksiyonuna girer; doğrudan amonyak yöntemine kıyasla %20 daha yüksek verim ve enerji tüketimi %30 azalır. Seramik öncüllerinin hazırlanmasında önemli bir yöntemdir.
Gaz kromatografisi kuyruk redüktörü
Sabit bir sıvı olarak HMDS, taşıyıcının yüzey adsorpsiyon aktivitesini azaltır, tepe simetrisini %40 artırır ve tespit limitini 0,1 ppm'ye düşürür. Çevresel izleme, ilaç analizi ve diğer alanlarda yaygın olarak kullanılmaktadır.
Elektron Mikroskobu Örneklerinin Hazırlanması
HMDS, kritik nokta kurutucusu olarak geleneksel etanol dehidrasyonunun yerini alır, numune büzülmesini %80 azaltır, hücre alt yapısını korur ve biyomedikal araştırmalarda yaygın olarak kullanılır.
Bu ürün için beş ana sentetik işlem vardır:
1. Trimetilsilan, Pt veya Pd'nin katalizi altında amonyakla reaksiyona girer. Reaksiyon sıcaklığı yüksektir ve ekipman sıkıdır. Verim %95,8'e kadar çıkıyor.
2. Trimetilklorosilan, trimetilklorosilanın atıl solvent içinde amonyakla reaksiyona sokulması ve rektifiye edilmesi yoluyla hazırlanır.
3. Hammadde olarak heksametildisiloksan ile, silikon sülfat oluşturmak için konsantre sülfürik asit ile reaksiyona girer ve silikon sülfat, trimetilklorosilan üretmek için hidrojen klorür ile reaksiyona girer ve daha sonra HMDS'yi hazırlamak için amonyağı geçirir.
4. Heksametildisiloksan, silikon fosfat hazırlamak için fosfor pentoksit veya fosforik asit ile reaksiyona girer ve ardından HMDS hazırlamak için amonyağa girer.
5. HMDS, amonyak gazı yoluyla doğrudan silikon sülfat üretmek üzere heksametildisiloksan ve konsantre sülfürik asidin reaksiyonuyla hazırlanır.
Şu anda ikinci yöntem esas olarak Çin'de HMDS'nin endüstriyel üretimi için kullanılıyor. Bu yöntemde ham madde olarak trimetilklorosilan alınır, inert solventte amonyakla reaksiyona sokulur ve daha sonra damıtma yoluyla hazırlanır.
Yöntem 1:
Karıştırıcı, termometre ve basınç göstergesi ile reaktöre 630 ml trimetilklorosilan, 250 ml heksametildisiloksan, 500 ml benzen ve 500 ml ksilen ekleyin ve eşit şekilde karıştırın. Amonyaklama reaksiyonu için amonyak gazı eklenir ve amonyak gazının verilme işlemi sırasında şişedeki malzeme durumunun değişimi dikkatle gözlemlenir. Amonyak gazı akış hızını sıkı bir şekilde kontrol edin ve tuz parçacıklarının trimetilklorosilanı sarmasını önlemek için reaksiyon hızı çok hızlı olmamalıdır. Reaksiyon sıcaklığını kontrol edin 80 dereceye eşit veya daha az ve reaksiyon basıncı 0,2Mpa'ya eşit veya daha az. Amonyaklama reaksiyonundan sonra malzeme 35 dereceye soğutulur ve ilk suyla yıkama için 800 ml su ilave edilir. Yıkadıktan sonra 5 dakika bekletin ve alt katmandaki NH4Cl sulu çözeltisini fazlar halinde çıkarın. Organik fazı yıkamak için 400 ml %30 potasyum hidroksit çözeltisi ekleyin. Yıkadıktan sonra 5 dakika bekletin ve ardından alt sulu fazı ayırın. Organik faz ikinci kez 800 ml su ile yıkanır. Faz ayrımından sonra üstteki malzeme ham HMDS'dir. Yıkama işlemi sırasında, birinci yıkamanın yıkama suyu, alkali yıkamadan sonraki ikinci yıkamanın yıkama suyu olacaktır. Ham ürün, reaksiyon solventini ve ürünü ayırmak için damıtma kulesine gönderilir ve son olarakheksametildisilazan%99'dan büyük veya buna eşit içerikli %89,99 verimle elde edilir.
Yöntem 2:
Heksametildisiloksandan heksametildisiloksanın hazırlanmasına yönelik bir yöntem aşağıdaki adımları içerir:
1) 1500 L kapasiteli bir reaksiyon kabına 1000 kg heksametildisiloksan koyun, reaksiyon için kuru hidrojen klorür gazını reaksiyon kabına besleyin ve trimetilklorosilan ve su oluşturun; Reaksiyon kabındaki basınç yaklaşık 0.2 MPa'da kontrol edilir, sıcaklık 30 derecedir ve reaksiyon kabındaki karıştırma hızı 65 dev/dak'dır. Reaksiyon sırasında üretilen su, reaksiyon kabının tabanından boşaltılır.
Yukarıdaki reaksiyon kabındaki karışık heksametildisiloksan ve trimetilklorosilan çözeltisindeki trimetilklorosilan kütlesi, karışık çözeltinin kütlesinin %30'unu oluşturduğunda, hidrojen klorür gazının geçişi durdurulur ve reaksiyon sona erer.
2) Yukarıda elde edilen heksametildisiloksan ve trimetilklorosilan karışımını 3000L kapasiteli başka bir reaktöre aktarın ve karıştırın. Heksametildisiloksan ve amonyum klorür üretmek için reaktörü kuru amonyakla doldurun. Reaktördeki basınç yaklaşık 0.25 MPa, sıcaklık 35 derece ve reaksiyon süresi 5 saattir.
3) Adım 2)'deki reaksiyon ürünündeki amonyum klorür, amonyum klorür ayırma koyulaştırıcısı yoluyla ayrılır ve daha sonra kalıntı, son olarak elde edilen heksametildisiloksanı çıkarmak için rektifiye edilir.heksametildisilazan (HMDS).
Popüler Etiketler: heksametildisilazan(hmds) cas 999-97-3, tedarikçiler, üreticiler, fabrika, toptan satış, satın al, fiyat, toplu, satılık